31 мая на территории Института сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники РАН состоялся 7-ой научно-практический семинар для пользователей оборудования Raith «Электронно-лучевая литография на оборудовании Raith: от идеи до реализации».
Во встрече приняли участие представители университетов, институтов, научно-исследовательских центров и наукоемких производств Москвы, Санкт-Петербурга, Томска, Нижнего Новгорода, Великого Новгорода, а также представители компании Raith GmbH (Германия) Мартин Кирхнер, Вилфрид Мензель и Пол Мазаров и Raith B.V. (Нидерланды) Берт Маес, которые выступили с докладами о новейших разработках в области электронно-лучевой литографии и организации сервисной поддержки пользователей оборудования Raith.
Встреча пользователей оборудования Raith началась с выступления Директора ИСВЧПЭ РАН Гамкрелидзе Сергея Анатольевича, который поприветствовал участников семинара и рассказал об основных направлениях научных исследований ИСВЧПЭ РАН и о тенденциях в развитии сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники. Опытом использования систем электронно-лучевой литографии поделились представители МГУ им. М. В. Ломоносова, НОЦ «Функциональные микро/наносистемы» (МГТУ им. Баумана) и ИСВЧПЭ РАН. А приглашенный докладчик Доктор Виталий Гузенко выступил с докладом о применении системы EBPG в Институте Пауля Шеррера (Швейцария).
|
|
Вторая половина семинара началась с презентации нового продукта Raith — растрового электронного микроскопа с фокусируемым ионным пучком (ФИП-РЭМ) для ФИП-центрической нанообработки. Доктор Пол Мазаров (Raith GmbH), участвующий в непосредственной разработке системы Raith VELION, рассказал об уникальных особенностях этого прибора, а также какие задачи он помогает решать при исследованиях и разработках в области прототипирования нанообъектов, приготовления образцов и микроскопии.
Презентация новой системы и ее превосходных возможностей впервые состоялась в здании Германского физического общества (DPG) в Берлине 13–16 марта.
Там же выступил доктор Свен Бауэрдик, старший менеджер по продукции Raith:
«Raith VELION — это идеальный выбор как для экспертов в области работы с фокусированным ионным пучком, так и для профессионалов в сфере нанообработки, так как заключает в себе различные функции нанообработки больших площадей, а также все прямые и 3D-методы формирования структуры. Благодаря простой процедуре оптимизации in situ и меньшему количеству шагов обработки технология дополняет метод электронно-лучевой литографии и позволяет достичь значимых для науки результатов в более короткие сроки. Высокое разрешение РЭМ делает доступными функции обработки образцов в сочетании с просмотром (например, анализ поперечного сечения и изготовление ламелей для просвечивающей электронной микроскопии). Все перечисленные возможности объединены в одной системе. Это наше решение для пользователей ФИП-РЭМ, которые выполняют особенно сложные задачи по нанообработке».
