Электронно-литографическая приставка

Raith ELPHY Plus

Основная информация

Raith ELPHY Plus — это электронно-литографическая приставка высокого класса для растрового электронно-лучевого микроскопа, оборудованного термоавтоэмиссионным катодом, для ионно-лучевого микроскопа, или рабочей станции FIB-SEM. Архитектура приставки построена на технологии DSP и оптимизирована для стабильной работы на высоких скоростях генератора паттернов и экспонирования.

Подробнее...

Производитель Raith

Описание

Raith ELPHY Plus — это электронно-литографическая приставка высокого класса для растрового электронно-лучевого микроскопа, оборудованного термоавтоэмиссионным катодом, для ионно-лучевого микроскопа, или рабочей станции FIB-SEM. Архитектура приставки построена на технологии DSP и оптимизирована для стабильной работы на высоких скоростях генератора паттернов и экспонирования.

ELPHY Plus — выделенный 16-битный аппаратный модуль, позволяющий работать на скоростях цифро-аналоговых преобразователей вплоть до 12 МГц. Характеризуется термостабильностью, низким уровнем аппаратных шумов и радиочастотным экранированием электроники.

Пользователям приставки доступны продвинутые режимы нанолитографии: расчет и коррекция эффекта близости несколькими моделями по методу конечных разностей, литография в 3D, автоматизация процессов типа step&repeat, выравнивание по полю экспонирования и при переходе от поля к полю.

Технические характеристики

Основные характеристики

Скорость экспонирования	12 МГц
Управляющие сигналы	Управление электростатическим бланкером (TTL), Управление электростатическим бланкером (100В), Включение внешнего управления сканированя пучками РЭМ/ФИП (TTL), Запрос на управление сканирования РЭМ/ФИП внешним устройством (TTL)
Цифроаналоговые преобразователи	16 бит, 2 х 3 мультиплицирующих ЦАП для сверхвысокоточного выравнивания и калибровки размеров в поле экспонирования, Выделенный стабилизированный блок ЦАП, 100% развязка с электроникой управляющего компьютера
Режимы и характеристики	Редактор GDSII с интегрированной иерархической структурой; обсчет и привязка параметров экспонирования; скриптинг (VB), создание макросов, Импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF, Режим захвата изображения, Измерение ширины линии, Удаленный контроль РЭМ/ФИП, модуль ФИП, “Offline” лицензии программного обеспечения, Коррекция эффекта близости (опционально), Литография в 3D, Работа с лазерным интерферометрическим столом без ограничений
Временное разрешение по скорости экспонирования	2 нс

Узнать подробные характеристики

Сервисное обслуживание
Постгарантийное обслуживание в Сервисном Центре ZEISS –
это квалифицированная техническая поддержка и модернизация оборудования
от профессиональных инженеров:
- диагностика, профилактические и регламентные работы
- удаленные консультации
- замена запасных частей и комплектующих
- модернизация оборудования и установка актуального ПО
Узнать больше