Raith EBPG5150

Система EBPG5150 оптимизирована для всех применений электронно-лучевой литографии типа “direct write” с максимальным размером по площади 155 х 155 мм. Система основана на универсальной платформе EBPG5200. В EBPG5150 можно загружать образцы разных размеров и в разных количествах: от деталей элементов до полноразмерных полупроводниковых пластин.

Систему EBPG5150 можно дополнить различными опциями в соответствии с техническими и коммерческими требованиями. Это позволяет высшим учебным заведениям всего мира использовать наиболее передовую автоматизированную систему электронно-лучевой литографии.

• Превосходная эффективность многослойной литографии с точностью совмещения слоев ≤ 5 нм
• Высочайшее разрешение
• Непревзойденная автоматическая калибровка и автоматизация работы
• Графический интерфейс для простоты использования, многопользовательский интерфейс
• Гибкость комплектов настройки, обеспечивающая идеальное соответствие требованиям и области примененияТермоэмиссионная электронная пушка с током высокой плотности, работающая при напряжении 20, 50 и 100 кВ.

Применение:

• Литограф с высоким ускоряющим напряжением для наноструктур с большим аспектным соотношением
• Высокоскоростная “прямая литография” (direct write)
• Серийное производство, например, устройств со сложными составными полупроводниковыми материалами
• Элементы защиты от подделывания