RAITH150 Two — это компактный электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, предназначенный для центров коллективного пользования и опытно-конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
Литограф рассчитан на работу с пластинами размером до 7–8 дюймов. Cтабильность параметров системы и применение методов автоматической корректировки (дрейфа, фокусировки) позволяет осуществлять литографирование с ультравысоким разрешением для образцов малой и большой площади поверхности.
RAITH150 Two — производительное и высокоэффективное оборудование для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением. Позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала.
RAITH150 Two обеспечивает выполнение сложных литографических задач с максимально высокой точностью и воспроизводимостью:
- сшивка и выравнивание полей экспонирования
- многослойная литография с высокоточным наложением (включая метод mix&match)
- задачи типа step&repeat
- бесшовное рисование объектов с высоким аспектным соотношением — например, световодов для волновой оптики шириной в десятки нанометров и длиной до нескольких сантиметров
- бесшовное рисование периодических структур с помощью уникальных технологий рисования высокоточным столиком при неподвижном пучке и рисования столиком с определенной модуляцией пучка.
Основные характеристики:
- высокая стабильность электронно-оптической колонны (стабильность пучка по току, по дрейфу)
- точность позиционирования 1 нм лазерного интерферометрического стола,
- широкие возможности по автоматизации и контролю основных параметров при длительном (дни) экспонировании
- высокая точность наложения при многослойной литографии и сшивке полей экспонирования (гарантированное среднее значение ошибки, плюс, 3 стандартных отклонения — менее 35 нм; по тестам приемки точность сшивки обычно составляет 15–20 нм)
- быстрый генератор развертки 20 МГц
- гибкость в подборе параметров экспонирования
- полная интегрированность (экспонирование, контроль перемещения, CAD и т. д.)
- бесшовное литографирование протяженных и периодических структур
- гибкость в настройках электронно-оптической колонны
- колонна класса GEMINI
- гибкость применения системы расширенный функционал литографа (режимы получения РЭМ-изображений, литографирование по изображению, коррекция эффекта близости, экспонирование элементов по различной траектории растра пучка и т. д.)
RAITH150 Two может быть установлен в чистое помещение целиком, либо частично — только загрузочной камерой. Предъявляет сниженные требования к температурной стабильности в помещении.
Литограф обладает интуитивно понятным многопользовательским интерфейсом. Оснащен программным обеспечением Raith Nanosuite с единым модулем дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, скриптинг, автоматизация, «DirectAlignDesign», «Flexposure», коррекция эффекта близости, литография в 3D. Соблюдается стандарт GDSII.
