Мы используем файлы cookie для правильного функционирования сайта. Работая с нашим сайтом, вы даете свое согласие на использование нами cookie-файлов
Я согласен
Бесплатный звонок: 8 800 2000 567
en
Бесплатный звонок: 8 800 2000 567

Мы предлагаем оборудование для решения задач в области ионнолучевой, лазерной и электроннолучевой литографии от производителей Nanoscribe (Германия) и Raith (Германия).

Узнайте больше о комплексных решениях для рутинной работы и научных исследований в области материаловедения >>

 

  • Nanoscribe Photonic Professional GT2
    Лазерный 3D литограф

    Nanoscribe Photonic Professional GT2

    Nanoscribe Photonic Professional GT — это компактная настольная система лазерной литографии, предназначенная для создания трехмерных микро- и наноструктур на основе коммерчески доступных фоторезистов. Разработана с учетом высоких требований к точности изготовления фотонных структур и оптических метаматериалов.

  • Raith CHIPSCANNER
    Электронно-лучевой литограф

    Raith CHIPSCANNER

    Raith CHIPSCANNER — это электронно-лучевой литограф для сканирования чипов и получения топологии в векторном формате CAD с ультравысоким пространственным разрешением и учетом всех элементов топологии — по площади и послойно.

  • Raith EBPG-5200
    Электронно-лучевой литограф

    Raith EBPG-5200

    Raith EBPG-5200 – высокопроизводительный электронно-лучевой литограф, рассчитанный на работу с пластинами до 200 мм.

  • Raith EBPG5150
    Электронно-лучевой литограф

    Raith EBPG5150

    Raith EBPG5150 – это литограф “direct write” с возможностью автоматизации и высокой производительностью.

  • Raith eLINE Plus
    Электронно-лучевой литограф

    Raith eLINE Plus

    Raith eLINE Plus — система, объединяющая в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. Предназначена для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

  • Raith ELPHY MultiBeam
    Электронно-литографическая приставка

    Raith ELPHY MultiBeam

    Raith ELPHY MultiBeam — это электронно-литографическая приставка, разработанная для широкого спектра задач рабочих станций FIB-SEM, а также для контроля литографических и аналитических приложений.

Показать больше

Пресс-центр

Читать все материалы
Читать далее
. . .
Заинтересованы в сотрудничестве?

Свяжитесь с нами по телефону: 8–800–2000–567 или заполните форму обратной связи:

Отправить
x